納米粒度儀主要的2種測量原理
更新時間：2023-01-06
瀏覽次數：2749
納米粒度儀采用動態光散射(DLS)技術進行納米粒度測量，被廣泛應用于有機或無機納米顆粒、乳液、高分子聚合物、膠束、病毒抗體及蛋白質等樣品的顆粒表征及樣品體系穩定性及顆粒團聚傾向性的檢測和分析。
測量原理：動態光散射（DLS）、靜態光散射（SLS）。
光源：集成恒溫系統及光纖耦合的功率50mW，波長638nm固體激光器。
相關器：高速數字相關器，自適應通道配置。
主要特點包括：
1.經典90°動態光散射技術測量粒徑，測量范圍覆蓋0.3nm-15μm。
2.加持自動恒溫技術的功率可達50mW, 波長638nm的固體激光光源，儀器即開即用。
3.激光光源與照明光及參考光的一體化及光纖分束技術。
4.信號光與參考光的光纖合束及干涉技術。
5.集成光纖技術的高靈敏度和極低暗電流(20cps)的光子檢測器。
6.常規溫度控制范圍可達0°C ~ 90°C，可選120°C， 精度±0.1°C。
7.新一代高速數字相關器，動態范圍大于10¹¹。
8.冷凝控制-干燥氣體吹掃技術。
珠海真理光學儀器有限公司專注于顆粒表征和分析儀器的研發和生產，公司聚集了多位在顆粒學和粉體技術領域具有豐富經驗和工作成就的精英人才，其涵蓋顆粒表征技術的基礎理論研究、應用技術開發、產品制造、技術支持和商業運營服務。
